作者:庄永芳,冯伟明 单位:上海磨床研究所 出版:《精密制造与自动化》1987年第02期 页数:4页  (PDF与DOC格式可能不同) PDF编号:PDFSCYM1987020160 DOC编号:DOCSCYM1987020169 下载格式:PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
  • 目前,随着精密机械和精细技术的发展,对微小位移的测量已进入毫微米领域,精度和分辨率要求越来越高,并且希望使用环境不太苛刻、价格低廉、操作简便。电容测微在这方面很有潜力,以往在实验室条件下,有的分辨率达到0.1(?),有的精度在100mm测量范围达0.04μm,有的稳定性方面达到每天漂移10~(-9)mm,只是由于一些弱点,影响其广泛应用。近年来,由于一些新技术、新电路的出现,电容测微又得到迅速发展,相比之下,我国在这

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