作者:李昕,刘君华,朱长纯 单位:中国科学院;国家自然科学基金委员会 出版:《中国科学:技术科学》2005年第07期 页数:12页  (PDF与DOC格式可能不同) PDF编号:PDFJEXK2005070010 DOC编号:DOCJEXK2005070019 下载格式:PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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  • 研究了低温低压化学气相沉积(LPCVD)法生长的多壁碳纳米管薄膜对气体的敏感性.结果表明纯的多壁碳纳米管薄膜对气体没有明显的气敏特性,而碳纳米管-二氧化硅复合薄膜表现出对甲烷、氢气和乙炔的敏感性.LPCVD法生长的多壁碳纳米管-二氧化硅复合薄膜由于Schottky结的形成而具有电容性,被测气体在多壁碳纳米管表面发生化学吸附,从而调节Schottky结处存在的空间放电区域而导致介电常数改变是其对气体敏感的主要原因。

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