作者:马晓翠,阎大卫,赵永生 单位:中国真空学会 出版:《真空科学与技术学报》2003年第02期 页数:6页  (PDF与DOC格式可能不同) PDF编号:PDFZKKX2003020020 DOC编号:DOCZKKX2003020029 下载格式:PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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  • 本文给出用等离子化学气相沉积 (PCVD)技术制备的SnO2 /Fe2 O3 双层薄膜结构的俄歇谱 (AES)剖面分析、透射电镜 (TEM)断面形貌和扫描电镜 (SEM)表面形貌的实验研究结果。AES剖面分析和TEM断面形貌图显示在SnO2 与Fe2 O3 界面区有一个约 35nm厚的过渡层存在 ,其质地松散。实验还发现这个界面过渡层的存在缓解了层间应力 ,增强了SnO2 薄膜的附着力 ,对该双层膜的气敏特性有明显的控制作用 ;但当SnO2 层厚大于 2 70nm时 ,其控制作用几乎完全消失

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