《选择性化学机械抛光制作微拱形结构》PDF+DOC
作者:杨增涛,王华,曾德平,陈俊,赵纯亮
单位:中国电子科技集团公司第四十九研究所
出版:《传感器与微系统》2013年第04期
页数:3页 (PDF与DOC格式可能不同)
PDF编号:PDFCGQJ2013040330
DOC编号:DOCCGQJ2013040339
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为克服平面微机械结构无法释放残余应力、刚度小、跨度小,平面牺牲层工艺成拱出现非光滑台阶状边缘而造成器件失效或能量泄漏的缺点,改进现有成拱工艺在器件尺寸、结构稳定性及可靠性等方面的不足,提出一种用选择性化学机械抛光技术制作微拱形结构的方法。该方法是在化学机械抛光过程中,加入对牺牲层材料和硅材料抛光速度具有差异性的选择性抛光液,在牺牲层和硅材料的边界处利用滑动摩擦过程中的物理和化学作用,在牺牲层处形成连续平滑的拱形凸起,最后在其上制作微拱形结构。实验结果证实:微拱形结构有一定的曲率,拱起高度约为3.5μm,跨度大于100μm,微拱形表面光滑且为连续的曲面。该方法可为MEMS传感器、微型压电驱动器、薄膜体声波谐振器及滤波器的微拱形结构的制作提供参考。
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