作者:宋小奇,何伟铭 单位:中国微米纳米技术学会;东南大学 出版:《传感技术学报》2012年第11期 页数:5页  (PDF与DOC格式可能不同) PDF编号:PDFCGJS2012110100 DOC编号:DOCCGJS2012110109 下载格式:PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
  • 硅晶元等高精度平面度测量时,为提高测量可信性,对所用位移传感器标定已成为业界常规。本研究针对用于基于逐次两点法(STPM)测量硅平面的两电容式位移传感器2804/3890 J设计了一种压电陶瓷标定系统,实现其标定间隔达到8nm/1 mV,提高了标定的精确度。建立基于灰色理论的GM(0,2)系统数学模型,确立待标定传感器测量结果的回归模型,以得到传感器特性的最佳估计,并确定其联合不确定度,得到被标传感器的测量不确定度的最佳评估。与传统回归模型比较,得出GM(0,2)模型具有很好的精度,满足要求。通过STPM测量过程的模拟,得到用此传感器实施的STPM测量的测量精度约为56 nm(λ=20 nm)。

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