作者：崔洋,彭吉,于淼,李佩玥 单位：北京无线电技术研究所 出版：《电子测量技术》2014年第08期 页数：4页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFDZCL2014080240 DOC编号：DOCDZCL2014080249 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑

    • 光刻系统内部温度等微环境参数的波动是影响成像质量的重要因素，影响光刻机最终的线宽，因此对光刻系统内温度传感器测量的不确定度有极高的要求。本文对负温度系数的热敏电阻及其R-T特性进行简介，并针对工业级热敏电阻温度传感器进行了不确定分析，分别计算了标准测温仪引入的不确定度分量、标准温度传感器引入的不确定度分量以及测量重复性引入的不确定度分量，分析得到使用的工业级热敏电阻温度传感器合成不确定度为2.178m℃，扩展不确定度为为4.356m℃，满足对光刻系统内高精度温度测量的指标要求。

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