作者：涂昕,满卫东,游志恒,阳朔 单位：中国航天科技集团公司第五研究院510研究所 出版：《真空与低温》2014年第02期 页数：9页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFZKDW2014020030 DOC编号：DOCZKDW2014020039 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑

    • 微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法具有低温生长、基底材料选择广泛、容易掺杂等优点，是大面积、高速率、高质量石墨烯制备的首选。首先通过比较制备石墨烯的几种主要CVD方法得出MPCVD法的优势，然后阐述了MPCVD法制备石墨烯的研究，最后介绍了MPCVD法制备的石墨烯的应用并对MPCVD法制备石墨烯的发展趋势进行了展望。

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