作者：张新宝,谢铁邦,李柱 单位：武汉理工大学 出版：《武汉理工大学学报(信息与管理工程版)》2000年第03期 页数：5页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFWHQC2000030050 DOC编号：DOCWHQC2000030059 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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    • 新研制了一种大量程光学共焦跟踪式非接触三维弹头痕迹检测仪 ，介绍了这个测量系统的原理、结构、控制以及实验结果。该系统采用了光学共焦跟踪式微位移器 ，垂直分辨率为0 .0 1μm，测量范围为&#177； 2 0 0 μm ，通过量程扩展到 &#177； 10 0 0 μm ，它的圆周分辨率为 50″ ，轴向步距为1.2 5μm。另外 ，还采用光学聚焦测量方法的某些措施和数字伺服来克服光学共焦跟踪式微位移传感器的短处 ，即形貌垂直方向的允许阶跃变化量从每步&#177； 2 0 μm增加到每步&#177； 80 μm。该系统可以完整地获取弹头发射痕迹的真实形状 ，提供了部分测量数据和弹头痕迹的拟实图片。

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