作者:朱健 单位:南京电子技术研究所 出版:《电子机械工程》1998年第04期 页数:3页  (PDF与DOC格式可能不同) PDF编号:PDFDZJX1998040110 DOC编号:DOCDZJX1998040119 下载格式:PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
  • 本文论述了通过浅硼扩散、氧化退火处理、磷扩散、控制光刻工艺的套刻精度等工艺手段研制成功的光电二极管,其在蓝、紫光方面的光电特性具有明显的优越性。

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