《远紫外光刻技术领域CD控制的温度计量方法》PDF+DOC
作者:万力
单位:中国电子科技集团第四十五研究所
出版:《电子工业专用设备》1998年第01期
页数:4页 (PDF与DOC格式可能不同)
PDF编号:PDFDGZS801.0100
DOC编号:DOCDGZS801.0109
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《改进低损耗SAW滤波器用换能器的几种新结构》PDF+DOC1990年第01期 刘一声
从化学增强型抗蚀剂(CAR)到抗反射涂层(ARC),远紫外(DUV)光刻技术需要特殊的温度条件。本文阐述了解决这些问题的方案,讨论了监控及分析生产用抗蚀剂处理设备温度性能的技术;同时说明了检查测试热循环过程中实际的圆片热测量和掩模温度的现场监控。
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