作者:万力 单位:中国电子科技集团第四十五研究所 出版:《电子工业专用设备》1998年第01期 页数:4页  (PDF与DOC格式可能不同) PDF编号:PDFDGZS801.0100 DOC编号:DOCDGZS801.0109 下载格式:PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
  • 从化学增强型抗蚀剂(CAR)到抗反射涂层(ARC),远紫外(DUV)光刻技术需要特殊的温度条件。本文阐述了解决这些问题的方案,讨论了监控及分析生产用抗蚀剂处理设备温度性能的技术;同时说明了检查测试热循环过程中实际的圆片热测量和掩模温度的现场监控。

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