作者：刘军锐 单位：北京国际科技服务中心 出版：《科技资讯》2011年第17期 页数：1页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFZXLJ2011170400 DOC编号：DOCZXLJ2011170409 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑

    • 本文阐述了化学增强型抗蚀剂(CAR)到抗反射涂层(ARC)，远紫外(DUV)光刻技术需要特殊的温度条件以及一些解决措施。对抗蚀剂处理设备温度性能的技术进行监控及分析；同时说明了检查测试热循环过程中实际的圆片热测量和掩模温度的现场监控。

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