作者：廖清华,江风益,戴国瑞 单位：南昌大学 出版：《南昌大学学报(工科版)》1992年第03期 页数：4页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFNCDG1992030080 DOC编号：DOCNCDG1992030089 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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    • 本文介绍了用PECVD技术淀积NO_x敏感的工艺，并对典型工艺参数条件进行了讨论。我们淀积的这种NO_x敏感膜，不仅在旁热情况下对NO_x敏感，而且在室温条件下也能对NO_x气体敏感。最后，我们对室温NO_x气体传感器的一些重要性能指标进行了研究。

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