作者： 单位：中国电子科技集团公司第二十六研究所 出版：《压电与声光》1981年第03期 页数：6页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFYDSG1981030150 DOC编号：DOCYDSG1981030159 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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    • (一)单晶和薄膜材料095 聚焦离子束溅射技术沉积PZT薄膜——(Casleljano，R.N.)《Ferroelectrics》28 1—4(1980)387—90在氧气氛中由氩离子束在室温～450℃温度下和2&#215；10~(-4)乇的压力下从多晶靶体上溅射成为PbZr_xTi_(1-x)O_3薄膜.在&lt；250℃温度下沉积在NiCr-Au Pyrex玻璃上的膜是微晶的，但是在空气中加热到300—750℃后，一部份膜可以转变为钙钛矿型结构.沉积在因瓦(铁镍)合金(殷钢)上的薄膜是钙钛矿型，但是在400℃时带有烧缘石型的微量痕迹.沉积在&gt；200℃进行时将减少Pb的浓度，而Zr/Ti比随温度有改变.本文并用晶粒尺寸和化学组份解释了薄膜的介电常数，居里温度和电滞回线。

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