《用于光刻系统仿真的多边形处理算法》PDF+DOC
作者:吕楠,史峥,罗凯升,耿臻
单位:中国电子科技集团公司第四十九研究所
出版:《传感器与微系统》2014年第09期
页数:4页 (PDF与DOC格式可能不同)
PDF编号:PDFCGQJ2014090380
DOC编号:DOCCGQJ2014090389
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为提高光刻仿真效率,通过对光刻原理进行研究,提出了2种多边形处理算法,将掩模上的多边形图案进行切分优化,将其划分成若干矩形或三角形。在Linux环境下应用C语言设计出一个完整的光刻仿真系统,设计的具体光学参数为:光源波长为193nm,数值孔径为0.3~0.8,部分相干系数可调范围为0.2~0.8,可一次性仿真1μm×;1μm到10μm×;10μm范围内的45 nm~0.18μm工艺的复杂版图,并通过多次实验进行验证。实验结果表明:原版图图像的边缘细节得到保留,且该算法有效地减少了光刻模拟的计算复杂度与计算时间,整体效率提升20%以上,为当前智能传感器系统芯片的制造节省了宝贵时间。
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