作者： 单位：中国半导体行业协会 出版：《中国集成电路》2017年第10期 页数：12页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFJCDI2017100240 DOC编号：DOCJCDI2017100249 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑

    • 国内新闻上海启动8英寸超越摩尔研发中试线日前，由上海微技术工业研究院建设的8英寸“超越摩尔”研发中试线正式启动，填补了我国微机电系统智能传感器领域缺乏小批量中间性试验生产线的空白。随着硅的工艺发展趋近于其物理瓶颈以及成本制约，业内专家认为，“超越摩尔”时代已经来临，传统摩尔定律或将面临颠覆，将不再局限于依靠尺寸改变去推进集成电路工艺节点，材料、结构等多维度

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