作者：王利,祁志美,崔大付 单位：沈阳仪表科学研究院有限公司 出版：《仪表技术与传感器》1998年第03期 页数：4页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFYBJS803.0030 DOC编号：DOCYBJS803.0039 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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    • 本文主要介绍了微结构气敏传感器制造工艺中的关键技术，例如双面光刻、反应等离子刻蚀、硅的各向异性腐蚀、采用溶胶—凝胶镀膜技术制备ＷＯ３敏感薄膜。文中还给出ＷＯ３薄膜的ＸＲＤ和ＳＥＭ表面分析图。对结构和表面形貌进行了分析，并给出传感器的气敏特性曲线。最后对存在的问题进行了简单的讨论。

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