作者:邹平松,赖宗声 单位:沈阳仪表科学研究院有限公司 出版:《仪表技术与传感器》1998年第03期 页数:4页  (PDF与DOC格式可能不同) PDF编号:PDFYBJS803.0010 DOC编号:DOCYBJS803.0019 下载格式:PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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  • 本文在对阳极氧化反应形成多孔硅及对多孔硅选择性生长机理、刻蚀研究的基础上,在硅片上做出到衬底距离大于50μm的微桥结构。然后在微桥上溅射镍—铬电阻薄膜,形成温敏传感器微结构,并对其温度电阻特性,热响应时间进行了测量。利用该结构本文还设计出一种新型的温敏、气敏多功能传感结构。

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