作者:余晋岳,叶伟春,魏福林 单位:中国电子科技集团公司第52研究所 出版:《》 页数:2页  (PDF与DOC格式可能不同) PDF编号:PDFDZJB605.0240 DOC编号:DOCDZJB605.0249 下载格式:PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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  • 本文从磁阻(MR)磁头的实际结构出发观察并分析了传感器高度为3—6μm(形状比大于50/1)的磁头,在反磁化过程中碰畴结构的变化过程,特别注意了传感器和引线联结处钩形畴的不可逆活动过程,并直接观察了磁畴的活动对输出信号的影响。

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