作者：王晓俊,罗庆芳,邹道文,郭述文,夏至洪 单位：南昌大学 出版：《南昌大学学报(理科版)》1996年第01期 页数：3页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFNCDL601.0030 DOC编号：DOCNCDL601.0039 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑

    • 采用光ＣＶＤ法制备了良好的ＳｉＯ２薄膜，为半导体器件及传感器表面修饰提供了一条新型可行的途径。

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