作者：张为,姚素英,张生才,刘艳艳,曲宏伟 单位：沈阳仪表科学研究院有限公司 出版：《仪表技术与传感器》2002年第04期 页数：3页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFYBJS2002040020 DOC编号：DOCYBJS2002040029 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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    • 论述了多晶硅、SOI(绝缘体上硅 )、碳化硅、SOS(蓝宝石上硅 )、石英、溅射合金薄膜、陶瓷厚膜和光纤等高温压力传感器的基本结构、工作原理、特点及研究现状 ，展望了压力传感器的未来。

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