作者:谭定忠,张立勋,王立权,蔡威 单位:北京信息科技大学 出版:《传感器世界》1998年第03期 页数:4页  (PDF与DOC格式可能不同) PDF编号:PDFCGSJ1998030040 DOC编号:DOCCGSJ1998030049 下载格式:PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
《新型磁驱动增大检测电容的高精度MEMS惯性传感器研究》PDF+DOC2010年第05期 董林玺,焦继伟,颜海霞,孙玲玲 《文摘选辑》PDF+DOC1986年第02期 《微传感器的关键是微平版刻蚀》PDF+DOC 卓宗一 《应用于MEMS气密性封装测试的微型湿度传感器的设计与制作》PDF+DOC2003年第Z1期 熊韬,易新建,陈四海,陈明祥,周少波 《刻蚀机温度控制系统设计初探》PDF+DOC2012年第07期 高颖 《日立开发出CMOS兼容的MEMS传感器工艺》PDF+DOC2009年第11期 Kenji Tsuda 《Lam Research的先进深硅刻蚀技术》PDF+DOC2015年第03期 Jay Minami,Alisa Hart 《新颖CMOS图像传感器刻蚀工艺进展》PDF+DOC2013年第06期 Tao Zhong,Ying Huang,Chih-Hsun Hsu,Scott Williams,Benjamin Schwarz
  • 化学刻蚀是石英传感器制造中常用的工艺方法.化学刻蚀必须解决腐蚀液和保护膜两大问题.腐蚀液浓度、温度、石英材料的质量、抛光质量等对传感器表面质量、尺寸精度、性能有影响。

    提示:百度云已更名为百度网盘(百度盘),天翼云盘、微盘下载地址……暂未提供。