作者：庞程,赵湛,杜利东 单位：中国电子科技集团公司第十三研究所 出版：《微纳电子技术》2007年第Z1期 页数：4页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFBDTQ2007Z10780 DOC编号：DOCBDTQ2007Z10789 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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    • 基于MEMS的电容式压力传感器以其低成本高性能在气象测量中有着广阔的应用前景。利用ANSYS软件模拟接触式电容压力传感器的工作状态，得到硅膜的形变和应力分布状况。制作流程采用简单标准的工艺：利用KOH各向异性腐蚀进行硅片大面积、大深度腐蚀减薄，分析了其浓度配比对硅面平整度特性的影响，采用阳极键合形成真空腔，试验反应离子深刻蚀形成硅膜的效果。芯片测试结果表明方案可行。

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