作者:齐虹,丁文波,张松,张林超,田雷,吴佐飞 单位:中国电子科技集团公司第四十九研究所 出版:《传感器与微系统》2019年第02期 页数:4页  (PDF与DOC格式可能不同) PDF编号:PDFCGQJ2019020440 DOC编号:DOCCGQJ2019020449 下载格式:PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
《SOI压力传感器阳极键合残余应力研究》PDF+DOC2018年第11期 李玉玲,王明伟,张林超,吴佐飞 《基于硅硅键合技术的高精度压力传感器的研究》PDF+DOC2017年第05期 李颖,张治国,郑东明,梁峭,张哲,刘剑,祝永峰 《一种MEMS高温压力传感器》PDF+DOC2016年第06期 王伟忠,何洪涛,卞玉民,杨拥军 《基于SOI岛膜结构的高温压力传感器》PDF+DOC2018年第09期 杨娇燕,梁庭,李鑫,李旺旺,林立娜,李奇思,赵丹,雷程,熊继军 《静电键合在高温压力传感器中的应用》PDF+DOC1999年第01期 王蔚,刘晓为,刘玉强,王喜莲,张建才,张雪梅 《SOI压力传感器的发展》PDF+DOC1994年第10期 白韶红 《用于MEMS器件的单面溅金硅共晶键合技术》PDF+DOC2006年第12期 刘兵武,张兆华,谭智敏,林惠旺,刘理天 《半导体高温压力传感器的静电键合技术》PDF+DOC2002年第06期 赵毅强,张生才,姚素英,张为,曲宏伟,张维新 《一种SOI高温压力传感器敏感芯片》PDF+DOC2014年第04期 王伟,梁庭,李赛男,洪应平,葛冰儿,郑庭丽,贾平岗,熊继军 《谐振式MEMS压力传感器的制作及圆片级真空封装》PDF+DOC2014年第05期 陈德勇,曹明威,王军波,焦海龙,张健
  • 针对绝缘体上硅(SOI)异质异构结构特点,提出了两次对准和两次阳极键合工艺方法,实现了圆片级SOI高温压力传感器硅敏感芯片的叠层键合。采用玻璃—硅—玻璃三层结构的SOI压力芯片具有良好的密封性和键合强度。经测试结果表明:SOI高温压力传感器芯片键合界面均匀平整无缺陷,漏率低于5×10~(-9)Pa·m~3/s,键合强度大于3 MPa。对芯片进行无引线封装,在500℃下测试得出传感器总精度小于0. 5%FS。

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