作者:杜晓松,杨邦朝,王卉 单位:沈阳仪表科学研究院有限公司 出版:《仪表技术与传感器》2000年第01期 页数:4页  (PDF与DOC格式可能不同) PDF编号:PDFYBJS2000010010 DOC编号:DOCYBJS2000010019 下载格式:PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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  • 文中综述了动态高压锰铜传感器最近十多年来的研究现状,着重介绍了一类新型的锰铜传感器———薄膜式锰铜传感器的研发进展。该类传感器的研制旨在提高传感器高压测试极限和缩短响应时间。目前已进行了直到80GPa以下的初步标定,响应时间最快达32ns

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